BBO晶体
§ 工程师根据具体应用需求推荐相应的BBO晶体,并根据具体情况计算相关参数
§ 高精度的BBO晶体(镀制对应增透膜AR coating或者P-coating);
§ BBO晶体超薄片(镀制对应增透膜AR coating或保护膜P-coating);
§ 根据具体情况给BBO晶体安装合适的支架;
§ 用于电光开关(e/o)的镀金BBO晶体;
描述:
宇晶光电通过光学设计提高了BBO晶体的倍频转换效率等情况,得到了ns脉宽的1064nm输入光到fs脉宽的FHG倍频脉冲的输出,利用耦合波方程为模拟理论平台,计算了作用BBO晶体倍频效率的主要参数,而且根据相位匹配的计算结果,对所有能够应用的NLO晶体测算,测算包括晶体相位匹配角和相关波长的非线性系数、晶体中光路的离散角等等,基于使用的输入光参数,计算了BBO晶体的切割尺寸角度等;采用BBO晶体倍频,产生了脉冲宽度620ps、能量0到300m J可变动的532nm皮秒输出光,而且产生了倍频光能量分布为高斯形态的光束;同时FHG倍频仍然使用10×10×7mm3的一类BBO晶体,相位匹配切割角度为theta=47.7°,phi=0°,最终得到了52%的266nm倍频光,产生的266nm倍频光脉冲宽度是300ps,并且得到了较高的峰值功率。影响倍频转换效率提高的重要因素为BBO晶体对266nm光的端面反射以及能量吸收。
BBO晶体的优势:
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可实现相位匹配的波长范围大(410nm—3500nm);
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透光范围大(190nm—3500nm);
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非线性系数大(约相当于KDP晶体的6倍);
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能应用于高能量的激光(100ps脉宽的1064nm 10GW/cm2);
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光学质量好(dn10-6);
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能适应的温度范围大;
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不易碎.
BBO晶体的重要应用:
- 1064nm以及1550nm附近激光器的二、三、四、五倍频;800nm附近的二、三倍频.532nm附近的二倍频;410nm附近的二倍频
- OPO属于标准的非线性技术之一。因为操作和设置简单便能够得到高转换效率、高能量、比较宽的频率和能量的增强。所以在很多地方得到了利用,比较典型的有图像信息领域的OPO。BBO晶体对于大范围广区域高频率的激光OPO成像, 包括BBO晶体的厚度、泵浦光强度及其空间分布等方面的因素。讨论分析了光参量放大的成像特性,包括其增益特性、空间频率带宽特性等等。通过研究了解BBO晶体在400nm到700nm以及700nm到3500nm的OPO中表现出了更优良的放大增益与波长范围宽等优点;厚度小的BBO晶体不太适合用于高转换效率的OPO系统,厚一点的BBO晶体才能够得到较宽区域频率范围和波长范围;对于优良的BBO晶体,能量高的基频光强比较合适高的倍频增益、频率高的范围波长的激光参量放大;能量分布合适的基频输入光对使用BBO晶体成像后的分辨率有好处。
- BBO晶体对于能量的区域分布会对倍频光以及放大光的输出有影响,输入光的能量均匀度好是倍频光以及OPO输出光的光束质量优良的重要条件。使用光路追线方法对BBO晶体倍频后产生的能量分布进行研究,为得到较高质量的倍频光束以及OPO光束奠定了方向。从使用BBO晶体激光倍频的光学理论上看,由于BBO倍频晶体的相位匹配,再根据光路追线法,得到了532nm的能量区域的理论数据, 因此计算了激光在通过BBO倍频晶体后的532nm能量区域,最终获得并推导出一定范围内的紫外倍频光能量分布情况,再根据266nm紫外倍频情况,借鉴BBO晶体的理论角度相位失配计算出大部分波长的倍频光转换效率。
BBO晶体的物理特性:
透光范围 | 190-3500nm |
二次谐波可匹配范围 | 409.6-3500nm(Type I) |
525-3500nm(Type II) | |
热透镜系数(/℃) | dno/dT=-9.3x 10-6/℃ |
dne/dT=-16.6x 10-6/℃ | |
吸收系数 | <0.1%/cm @ 1064nm |
<1%/cm @ 532nm | |
接受角 | 0.8mrad-cm(θ, Type I,1064 SHG) |
1.27mrad-cm (θ, Type II,1064 SHG) | |
工作温度 | 55℃-cm |
光谱范围 | 1.1nm-cm |
走离角 | 2.7° (Type I 1064 SHG) |
3.2° (Type II 1064 SHG) | |
非线性系数 | deff (I)=d31sinθ+(d11cosΦ-22sin3Φ)cosθ |
deff (II)=(d11sin3Φ+d22cos3Φ)cos2θ | |
非零非线性磁化系数 | d11=5.8xd36(KDP) |
d31=0.05xd11 | |
d22<0.05xd11 | |
塞耳迈耶尔方程(λ in μm ) | no2=2.7359+0.01878 / (λ2-0.01822) -0.01354 λ2 |
ne2=2.3753+0.01224 / (λ2-0.01667) -0.01516 λ2 | |
电光系数 | r11=2.7pm/V, r22, r 31<0.1γ11 |
半波电压 | 48Kv (at 1064nm) |
电阻率 | >1011 ohm-cm |
相关介电常数 | εs11/so:6.7 |
εs33/εo:8.1 | |
Tan δ<0.001 |
BBO晶体的规格:
尺寸公差 | (W±0.1mm) x ( H±0.1mm) x (L+0.2mm/-0.1mm) |
角度公差 | Δθ< 0.25°, Δφ< 0.25° |
平面度 | λ/10 @ 633nm |
波前畸变 | < λ/8 @ 633nm |
表面光洁度 | 10/5 scratch/dig |
平行度 | < 20 arc seconds |
垂直度 | < 5 arc minutes |
通光孔径 | ≥中心直径95% |
倒边 | x 45°±5°chamfer |
镀膜 | R < 0.2% @ 1064nm, R < 0.5% @ 532nm |
损伤阈值(AR镀膜) | >1.5GW/cm2 for 1550nm,TEM00,10ns,10HZ |
>0.8 GW/cm for 800nm,TEM00,10ns,10HZ |
镀膜曲线示例(也可按不同波长需求设计定制其他曲线):
注:按照不同情况设计BBO晶体参数,根据不同波长设计BBO晶体的镀膜工艺。